Equipment database

Search by location
tool/instrument
or process

• Search database •

8-12-2016 

TNO kondigt vandaag het zogenoemde “first light” aan van de speciaal ontwikkelde en in de wereld unieke Extreem Ultra Violet (EUV) belichtings-  en analysefaciliteit EBL-2. Met “first light” schijnt het eerste keer licht uit de EUV-bron op een testmonster in de belichtingskamer. Dit is een belangrijke functionele test dat het concept werkt. Daarmee ligt het project op schema.

Klaar voor gebruik vanaf april 2017

Nu start de laatste fase van het bouwproject om de integratie af te ronden en het systeem te testen en te kwalificeren. Klanten over de hele wereld kunnen vanaf april 2017 gebruik maken van dit systeem. EBL-2 is mede tot stand gekomen door een bijdrage uit het Toekomstfonds en van het NanoLabNL.

Race naar steeds kleinere en zuinigere chips

In de race om chips steeds kleiner, sneller en zuiniger te maken schakelt de chipindustrie over naar het gebruik van EUV-licht in lithografiesystemen. Hierdoor is het noodzakelijk om de natuurkundige en de scheikundige aspecten van de interactie tussen materialen en EUV-licht te begrijpen. TNO heeft hiervoor met een aantal partners als USHIO en ASYS de wereldwijd unieke onderzoeksfaciliteit EBL-2 ontworpen en gebouwd.

“Met deze onderzoeksfaciliteit kunnen we het vervuilingsgedrag en de duurzaamheid van materialen en componenten die belicht worden door EUV analyseren en karakteriseren” zegt dr. Rogier Verberk (Directeur Semiconductor Equipment van TNO). Deze kennis zal bijdragen aan de ontwikkeling van nieuwe materialen en componenten die nodig zijn voor de meest geavanceerde EUV-lithografie systemen. Dit apparaat is door TNO in eigen beheer ontwikkeld zodat alle bedrijven in de EUV-industrie er gebruik van kunnen maken.

Product van samenwerking, beschikbaar voor iedereen

Het systeem is mede tot stand gekomen door een lening uit het toekomstfonds van Economische Zaken en bestaat uit een EUV-belichtingstak en een XPS-analysetak. De EUV belichtingstak bestaat uit de lichtbron van USHIO een lichtbundelingsunit, en de belichtingskamer. Het Sample-laadsysteem van ASYS, bevat een atmosferische en een vacuüm-robot, en een plasmareinigingskamer. Het XPS-systeem, dat gefinancierd is vanuit NanoLabNL, dient voor chemische analyse van het oppervlakte van het sample. Het geheel opereert in ultra schoon vacuüm.

Bron: website TNO

12-7-2016 

As part of the NanoLabNL facilities, TNO is currently building a new EUV beamline at 13 nm. This ultraclean beamline will be capable of exposing full EUV reticle size targets, pellicles and mirrors for optics lifetime testing. This could contribute to EUV scanner equipment developments for high volume manufacturing. More information: EBL2, EUV exposure and analysis facility.


"After a thorough market research study we decided to buy the Vistec EBPG5200"

The new ordered machine will be equipped with the latest features of the EBPG system series and will be installed at The Van Leeuwenhoek Laboratory (VLL) in Delft, where currently an EBPG5000plus system is already in use. This EBPG5000plus system will also be upgraded to the latest system status what will result in an one user-interface.

Where the current EBPG5000plus has the option to process samples from small pieces up to full 150mm wafers, the new EBPG5200 even can process wafers up to full 200mm in diameter.

Due to the intensive individual use of the system by more than 100 researchers, both systems are equipped with a loading facility for 10 sample-holders to guarantee a high throughput of jobs.

Vistec EBPG5200

Tijdens een startbijeenkomst bij Kavli Nanolab Delft zijn vandaag NanoLabNL-vouchers uitgereikt aan 3 innovatieve nanobedrijven. De vouchers, ter waarde van €7.500,- per stuk, geven recht op 50 tot 75 uur zelfstandig gebruik van de NanoLabNL-faciliteiten (incl. training) en/of advies daarover.

Voucher NanoLabNL foto Delft

De bedrijven die een vouchers hebben ontvangen voor het Kavli Nanolab Delft zijn DENSsolutions, Minus9, en Succesun.

Wegens succes van deze voucherronde heeft het Stichtingsbestuur van NanoLabNL beslotenin 2013 nogmaals twee voucherrondes uit te schrijven. Meer informatie over deze rondes is binnenkort beschikbaar op www.nanolabnl.nl.

Meer informatie over de 3 bedrijven: 

DENSSolutions: www.denssolutions.nl / Minus9: www.minus9.nl / Succesun: website in ontwikkeling

 

News & Agenda Delft

Date: 2016-12-08

Location: Delft

Nieuwe extreem UV licht faciliteit EBL-2 van TNO ziet 'first light' >>>

Date: 2016-07-12

Location: Delft

TNO building a new EUV beamline >>>

Date: 2014-03-14

Location: Delft

Kavli Nanolab recently ordered a new, second Electron Beam Lithography machine >>>

Date: 2013-03-13

Location: Delft

DENSsolutions, Minus9, en Succesun ontvangen Delftse NanoLabNL-voucher >>>